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PECVD法生長氮化硅薄膜是利用非平衡等離子體的特性，即等離子體分子、原子、離子或激活基團與周圍環境相同，而其中非平衡電子由于電子質量很小，其平均溫度可以比其他粒子大一二個數量級，所以通常條件下，要高溫(300℃-450℃)才能實現許多反應...

質譜法(massspectrometry)常稱為質譜(MS)，是一種利用質量分析方法進行鑒定物質結構的儀器分析方法。質譜分析法是通過對被測樣品離子的質荷比的測定來進行分析的一種分析方法。被分析的樣品首先要離子化，然后利用不同離子在電場或磁場...

Harrick等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子來達到傳統清洗方法無法達到的效果。等離子體是一種物質狀態，也稱為第四種物質狀態。向氣體施加足夠的能量使其電離，使其變成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、...

微波等離子去膠機是在（RIE）反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來，為小型等離子去膠機，具有體積小，性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻...

熱重分析是指在程序控制溫度下測量待測樣品的質量與溫度變化關系的一種熱分析技術，用來研究材料的熱穩定性和組份。熱重分析在研發和質量控制方面都是比較常用的檢測手段，在實際的材料分析中經常與其他分析方法連用，進行綜合熱分析，全面準確分析材料。實驗...

PDC-002等離子清洗機包含PAC、PPC、HPC和SCE，可以滿足實驗室到工業的應用、從低溫處理到帶冷卻處理的應用、從鋁質腔體到石英腔體的應用、從簡單緊湊的設備到可以通過軟件進行延展的應用，等等。該等離子清洗機，作為蝕刻系統，主要用在工...

等離子清洗機真空泵原理是兩個電極之間形成高頻交變電場，用真空泵在裝置的密閉容器中實現一定的真空度隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，區域內氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體。在真空和瞬時高溫狀態下，活性等離子...

Harrick等離子清洗機為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式，可以有效去除表面污染物，避免靜電損傷。在集成電路的制程中，會產生許多種類的污染物，包括氟化樹脂、氧化物、環氧樹脂、焊料、光刻蝕劑等，這些污染物將嚴重影響集成電路及其元器件的可靠...

高功率等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清...

微波等離子去膠機是一個典型的勻膠過程，其中包括滴膠，高速旋轉以及干燥（溶劑揮發）幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態...