基本型等離子清洗機已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機及其清洗技術(shù)，就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗機及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù)，比如說光學(xué)元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步，才能開發(fā)完成。

　　等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng)，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機，由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速成長，此方面應(yīng)用需求將越來越大。

　　基本型等離子清洗機的特點和優(yōu)勢：

　　（1）在經(jīng)過等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

　　（2）不使用三氯乙甲ODS有害溶劑，清洗后也不會產(chǎn)生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。

　　（3）用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強，因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，所以不必過多考慮被清洗物體形狀的影響，而且對這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。

　　（4）整個清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點。

　　（5）等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種真空度在工廠實際生產(chǎn)中很容易實現(xiàn)。這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格昂貴的有機溶劑，因此它的運行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

　　（6）由于不需要對清洗液進(jìn)行運輸、貯存、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生。